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沿革

デバイス事業および八王子地区の沿革

:施設 :技術・製品関連

1961 1号館完成
トランジスタ生産開始
1962 2・3号館完成
ミリ波管・電子計算器生産開始
1965 リードリレー生産開始、IC開発着手
1966 リードスイッチ生産開始
1967 IC生産開始
1968 CMOS開発着手
1969 4号館完成
プリント基板生産開始
1975 (秩父工場操業開始)
4Kb DRAM生産開始
1977 V1棟完成
マイクロプロセッサ生産開始
1979 マイクロコンピュータ生産開始
1980 管理・技術棟完成(5号館)
1981 (宮崎沖電気操業開始)
ゲートアレイ、64Kb DRAM(3μm)生産開始
1982 米NS社へ技術供与
1983 V2棟完成
(宮崎沖電気M2棟完成)
1984 (沖マイクロデザイン宮崎設立)
256Kb DRAM(2μm)生産開始
1985 V3棟完成
1987 1Mb DRAM(1.2μm)生産開始
1988 (宮城沖電気操業開始)
1989 4Mb DRAM(0.8μm)生産開始
1990 (オレゴン工場操業開始)
(沖LSIテクノロジ関西設立)
1991 (宮崎沖電気M3棟完成)
1992 (タイ工場操業開始)
U1棟完成
16Mb DRAM(0.5μm)生産開始
1994 256Mb DRAM(0.25μm)開発成功
1995 (宮城沖電気S2棟完成)
SSDカード生産開始
1996 新食堂棟完成(6号館)
1997 新管理・技術棟完成(7号館)
64Mb DRAM(0.3μm)生産開始
1Gb DRAM(0.18μm)開発成功
1998 SPAベース事業展開開始
表面実装光モジュール商品化
USBコントロールLSI商品化
2000 ブルートゥースシステムLSI商品化
μPLAT開発
2002 完全空乏型SOI技術によるLSI生産開始
2003 世界初、SOI標準電波時計LSI開発成功
SOS商品販売開始
2004 OHK深セン/OSSH北京/OSTS設立
2005 半導体事業グループ創設
2007 シリコンマイクロデバイスカンパニー創設